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殘余應(yīng)力是指構(gòu)件在制造過程中，將受到來自各種工藝等因素的作用與影響；當(dāng)這些因素消失之后，若構(gòu)件所受到的上述作用與影響不能隨之而消失，仍有部分作用與影響殘留在構(gòu)件內(nèi)，則這種殘留的作用與影響稱為殘留應(yīng)力或殘余應(yīng)力。150AT應(yīng)力雙折射系統(tǒng)用于殘余應(yīng)力檢測。該應(yīng)力雙折射測顯系統(tǒng)既可作為實(shí)驗(yàn)室科研探索測量光學(xué)組件應(yīng)力分布測量，也可用作諸如玻璃面板，透鏡，晶體，單晶硅/多晶硅、注塑成品等工業(yè)生產(chǎn)中檢測產(chǎn)品應(yīng)力分布。產(chǎn)品軟件直觀顯示待測樣品應(yīng)力情況，便于操作和日常監(jiān)測。150AT應(yīng)力雙折...

Gentec-EO小巧便攜且方便使用的激光功率計(jì)和能量計(jì)PRONTO系列所提供產(chǎn)品十分小巧，可隨身攜帶。對于經(jīng)常四處奔波或常使用激光等設(shè)備的修理維修人員，此為一種切實(shí)可行的解決方案。這些產(chǎn)品堅(jiān)硬牢固，可隨處處理并移動(dòng)，無需擔(dān)心發(fā)生損壞。這種操作簡單的解決方案不需要任何知識，只需將激光束對準(zhǔn)光圈，并在設(shè)備屏幕上直接讀取功率或能量測量。得益于我們的免費(fèi)專屬軟件，您甚至可利用數(shù)據(jù)記錄功能，在您的計(jì)算機(jī)上分析數(shù)據(jù)。Gentec-EO方便的無線設(shè)備，可在移動(dòng)設(shè)備或計(jì)算機(jī)上測量激光功率如...

光束質(zhì)量分析儀是一款符合標(biāo)準(zhǔn)的測量設(shè)備。測量過程中，固定的透鏡和高速的自動(dòng)光學(xué)導(dǎo)軌使得相機(jī)可以快速的采集到從近場到遠(yuǎn)場多個(gè)位置的激光光斑，測量、傳輸以及激光功率衰減全部由軟件自動(dòng)控制。在工作過程中造束腰透鏡和相機(jī)位置固定，通過兩片反光鏡在光學(xué)導(dǎo)軌上的自動(dòng)移動(dòng)，相機(jī)就可以的捕捉到從近場到遠(yuǎn)場不同位置的激光光斑，再通過軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)分析與計(jì)算，從而得到M2值、發(fā)散角、束腰大小等參數(shù)。光束質(zhì)量分析儀信噪比高，線性響應(yīng)度好。界面軟件可TCP/IP控制。通過庫套件可方便地應(yīng)用于各種場合。...

殘余應(yīng)力的測量方法可以分為有損和無損兩大類。有損測試方法就是應(yīng)力釋放法，也可以稱為機(jī)械的方法；無損方法就是物理的方法。機(jī)械方法用得多的是鉆孔法（盲孔法），其次還有針對一定對象的環(huán)芯法。物理方法中用得多的是X射線衍射法，其他主要物理方法還有中子衍射法、磁性法、超聲法以及壓痕應(yīng)變法。殘余應(yīng)力的檢測國內(nèi)外均已開展多年，其測定方法可分為機(jī)械測定法和物理測定法。機(jī)械測定法測定時(shí)須將局部分離或分割使應(yīng)力釋放，這就要對工件造成一定損傷甚至破壞，典型的有切槽法和鉆孔法，這方面技術(shù)成熟，理論完...

激光功率計(jì)是用來測試連續(xù)激光的功率或者脈沖激光在某一段時(shí)間的平均功率的儀器。常用到激光能量計(jì)，用來探測重復(fù)脈沖激光的單發(fā)能量和單脈沖激光的能量。熱電堆型激光功率計(jì)通過熱電堆結(jié)構(gòu)將光能轉(zhuǎn)換成熱量，再轉(zhuǎn)換為電信號輸出，通過校準(zhǔn)來測量激光功率的大小。激光功率計(jì)一般由探頭和顯示設(shè)備組成，激光功率計(jì)探頭按照不同的原理和材料分為熱電堆型、光電二極管型、以及包含兩種傳感器的綜合探頭，激光能量計(jì)則有熱釋電傳感器和熱電堆傳感器探頭。激光功率計(jì)使用方法1.接上輸入電源線，將光探測器的輸出插到儀器...

應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)(殘余應(yīng)力測量)可以在深紫外（193nm）波段進(jìn)行應(yīng)力雙折射探測。針對特定材料制作（氟化鈣）和特定形狀（非球面透鏡）的技術(shù)解決方案。應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)，非球面透鏡應(yīng)力雙折射測量，應(yīng)力橢偏儀，應(yīng)力橢偏測量,殘余應(yīng)力測量不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)（應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)）通過對光的調(diào)制解調(diào)可以測出待測光學(xué)元件中的雙折射大小和方向，這些數(shù)據(jù)同時(shí)也表示了應(yīng)力的大小和方向。這套不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)的傾斜，多角度入射掃描技術(shù)可以保證對非球面不規(guī)則的...